賽默飛CID檢測器檢測原理是怎樣的
CID是一種電荷注入器件，其基本結構與CCD相似，也是一種MOS結構，當柵極上加上電壓時，表面形成少數載流子的勢阱，入射光子在勢阱鄰近被吸收時，產生的電子被收集在勢阱里，其積分過程與CCD一樣。
賽默飛CID檢測器使用簡單，操作容易，無需設置調整，無需用戶校準，樣品不需處理，穩定可靠，使用成本低便于攜帶等特點。具有可直接顯示分析結果和金屬類型、對／錯鑒別，快速分類、黑色以及有色金屬近似定量分析和等級鑒別，利用預置的通用或特別工作曲線，可作單基體或多基體分析，可以按照具體樣品和用戶的要求進一步制作工作曲線，以滿足特殊工藝或材質的要求等功能。可以攜帶到需要做可靠的金屬鑒別或金屬分類的任何地方，適合于現場金屬分析 。是一種全新概念的金屬分析儀。
賽默飛CID檢測器檢測原理是把光生電荷轉移出去再檢測，由于電荷轉移出去后，MOS電容中不再有電荷，所以叫破壞型讀出方式。CID是在每個檢測單元上直接測，測量完畢后，光生電荷仍然存儲在MOS電容中（可以參看下面的檢測過程），所以叫非破壞型讀出方式。
CID與CCD的主要區別在于讀出過程，在CCD中，信號電荷必須經過轉移，才能讀
出，信號一經讀取即刻消失。而在CID中，信號電荷不用轉移，是直接注入體內形成電流
來讀出的。即每當積分結束時，去掉柵極上的電壓，存貯在勢阱中的電荷少數載流子(電子)被注入到體內，從而在外電路中引起信號電流。
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